Beschreibung
Dieses hochreine Kupferpulver mit dendritischer Partikelform wird in einem elektrochemischen Abscheidungsprozess hergestellt.
Eigenschaften
- Reinheit: > 99,5 % Kupfer
- Korngröße: -200 Mesh (< 75 µm)
- Schüttdichte: 0,7 g cm3 bis 2,5 g/cm3
Anwendungen
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Automobilindustrie
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Chemieindustrie
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Anwendungen
Reibkomponenten, Kohlebürsten, metallgebundenen Diamant- und Schleifscheiben, thermische/elektrische Leiter usw.
